公开(公告)号：
JPWO2023094943A1
摘要：
信頼性の高い表示装置の作製方法を提供する。 第１の導電層と第２の導電層を形成し、第１の導電層上と第２の導電層上に、第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上に、第１の膜を形成し、第１の膜上に、第１のマスク膜を形成し、第１の膜と第１のマスク膜を加工し、第１の導電層と重なる第１の導電膜上に、第１の層と第１のマスク層を形成し、第１の導電膜の露出した部分を除去し、第１の導電層、第１の層、第１のマスク層と重なる領域に、第３の導電層を形成し、第１のマスク層上と第２の導電層上に、第２の導電膜を形成し、第２の導電膜上に、第２の膜を形成し、第２の膜上に、第２のマスク膜を形成し、第２の膜と第２のマスク膜を加工し、第２の導電層と重なる第２の導電膜上に、第２の層と第２のマスク層を形成し、第２の導電膜の露出した部分を除去し、第２の導電層、第２の層、第２のマスク層と重なる領域に、第４の導電層を形成する。
权利要求：
第１の発光デバイスと、第２の発光デバイスと、絶縁層と、を有し、
前記第１の発光デバイスは、第１の導電層と、前記第１の導電層上の第２の導電層と、前記第２の導電層上の第１の層と、前記第１の層上の共通電極と、を有し、
前記第２の発光デバイスは、第３の導電層と、前記第３の導電層上の第４の導電層と、前記第４の導電層上の第５の導電層と、前記第５の導電層上の第２の層と、前記第２の層上の前記共通電極と、を有し、
前記第５の導電層は、前記第３の導電層の上面及び側面、並びに前記第４の導電層の上面及び側面を覆い、
前記第５の導電層の端部と、前記第２の層の端部とは、重なり、
前記絶縁層は、前記第１の層の上面の一部及び側面と、前記第５の導電層及び前記第２の層のそれぞれ上面の一部及び側面と、に重なり、
前記共通電極は、前記第１の層上、前記第２の層上、及び前記絶縁層上に設けられる、
表示装置。
請求項１において、
前記第２の導電層、前記４の導電層、及び前記第５の導電層は、それぞれ酸化物導電層を有する、
表示装置。
請求項１又は請求項２において、
前記絶縁層は、側面にテーパ形状を有する、
表示装置。
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記絶縁層は、有機絶縁材料を有する、
表示装置。
第１の導電層及び第２の導電層を形成し、
前記第１の導電層上及び前記第２の導電層上に、第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に、第１の膜を形成し、
前記第１の膜上に、第１のマスク膜を形成し、
前記第１の膜及び前記第１のマスク膜を加工して、前記第１の導電層と重なる前記第１の導電膜上に、第１の層及び第１のマスク層を形成し、
前記第１の導電膜の露出した部分を除去して、前記第１の導電層、前記第１の層、及び前記第１のマスク層と重なる領域に、第３の導電層を形成し、
前記第１のマスク層上及び前記第２の導電層上に、第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜上に、第２の膜を形成し、
前記第２の膜上に、第２のマスク膜を形成し、
前記第２の膜及び前記第２のマスク膜を加工して、前記第２の導電層と重なる前記第２の導電膜上に、第２の層及び第２のマスク層を形成し、
前記第２の導電膜の露出した部分を除去して、前記第２の導電層、前記第２の層、及び前記第２のマスク層と重なる領域に、第４の導電層を形成する、
表示装置の作製方法。
請求項５において、
前記第４の導電層を形成後に、前記第１のマスク層上及び前記第２のマスク層上に、第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に、第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜を加工して、前記第１の導電層と前記第２の導電層に挟まれる領域に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層をマスクに用いてエッチング処理を行って、前記第１の絶縁膜、前記第１のマスク層、及び前記第２のマスク層を加工して、前記第１の層の上面及び前記第２の層の上面を露出させ、
前記第１の層、前記第２の層、及び前記絶縁層を覆って、共通電極を形成する、
表示装置の作製方法。
第１の導電層及び第２の導電層と、前記第１の導電層上の第３の導電層と、前記第２の導電層上の第４の導電層と、を形成し、
前記第３の導電層上及び前記第４の導電層上に、第１の膜を形成し、
前記第１の膜上に、第１のマスク膜を形成し、
前記第１の膜及び前記第１のマスク膜を加工して、前記第１の導電層及び前記第３の導電層と重なる領域に、第１の層及び第１のマスク層を形成し、
前記第１のマスク層上及び前記第４の導電層上に、導電膜を形成し、
前記導電膜上に、第２の膜を形成し、
前記第２の膜上に、第２のマスク膜を形成し、
前記第２の膜及び前記第２のマスク膜を加工して、前記第２の導電層及び前記第４の導電層と重なる領域に、第２の層及び第２のマスク層を形成し、
前記導電膜の露出した部分を除去して、前記第２の導電層及び前記第４の導電層、前記第２の層、及び前記第２のマスク層と重なる領域に、第５の導電層を形成する、
表示装置の作製方法。
請求項７において、
前記第５の導電層を形成後に、前記第１のマスク層上及び前記第２のマスク層上に、第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に、第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜を加工して、前記第１の導電層及び前記第３の導電層と、前記第２の導電層及び前記第４の導電層と、に挟まれる領域に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層をマスクに用いてエッチング処理を行って、前記第１の絶縁膜、前記第１のマスク層、及び前記第２のマスク層を加工して、前記第１の層の上面及び前記第２の層の上面を露出させ、
前記第１の層、前記第２の層、及び前記絶縁層を覆って、共通電極を形成する、
表示装置の作製方法。
請求項５乃至請求項８において、
前記第３の導電層及び前記第４の導電層は、酸化物導電層を用いて形成する、
表示装置の作製方法。
請求項７又は請求項８において、
前記第５の導電層は、酸化物導電層を用いて形成する、
表示装置の作製方法。
請求項５乃至請求項１０のいずれか一において、
前記エッチング処理は、第１のエッチング処理と、第２のエッチング処理と、に分けて行い、
前記絶縁層をマスクに用いた前記第１のエッチング処理では、前記第１の絶縁膜、前記第１のマスク層、及び前記第２のマスク層を加工して、前記第１の絶縁膜の一部を除去し、かつ、前記第１のマスク層の一部及び前記第２のマスク層の一部の膜厚を薄くし、
加熱処理を行った後に、
前記絶縁層をマスクに用いた前記第２のエッチング処理では、前記第１のマスク層の一部及び前記第２のマスク層の一部を除去し、前記第１の層の上面及び前記第２の層の上面を露出させる、
表示装置の作製方法。
請求項１１において、
前記第１のエッチング処理及び前記第２のエッチング処理は、ウェットエッチングによって行う、
表示装置の作製方法。
請求項５乃至請求項１２のいずれか一において、
前記第１の絶縁膜として、ＡＬＤ法を用いて、酸化アルミニウム膜を成膜し、
前記第１のマスク膜及び前記第２のマスク膜として、それぞれＡＬＤ法を用いて、酸化アルミニウム膜を成膜する、
表示装置の作製方法。
請求項５乃至請求項１３のいずれか一において、
前記第２の絶縁膜は、感光性のアクリル樹脂を用いて形成する、
表示装置の作製方法。
技术领域：
は、表示装置、表示モジュール、及び、電子機器に関する。本発明の一態様は、表示装置の作製方法に関する。
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、照明装置、入力装置（例えば、タッチセンサ）、入出力装置（例えば、タッチパネル）、これらの装置を有する表示モジュール、当該表示モジュールを有する電子機器、それらの駆動方法、又はそれらの製造方法を一例として挙げることができる。
近年、表示装置は様々な用途への応用が期待されている。例えば、大型の表示装置の用途としては、家庭用のテレビジョン装置
背景技术：
レビジョン受信機ともいう。）、デジタルサイネージ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｇｅ：電子看板）、及び、ＰＩＤ（Ｐｕｂｌｉｃ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等が挙げられる。また、携帯情報端末として、タッチパネルを備えるスマートフォン又はタブレット端末などの開発が進められている。
また、表示装置の高精細化が求められている。高精細な表示装置が要求される機器として、例えば、仮想現実（ＶＲ：Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）、拡張現実（ＡＲ：Ａｕｇｍｅｎｔｅｄ Ｒｅａｌｉｔｙ）、代替現実（ＳＲ：Ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）、及び、複合現実（ＭＲ：Ｍｉｘｅｄ Ｒｅａｌｉｔｙ）向けの機器が、盛んに開発されている。
表示装置としては、例えば、発光デバイス（発光素子ともいう。）を有する発光装置が開発されている。エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ、以下ＥＬと記す。）現象を利用した発光デバイス（ＥＬデバイス、ＥＬ素子ともいう。）は、薄型軽量化が容易である、入力信号に対し高速に応答可能である、直流定電圧電源を用いて駆動可能である等の特徴を有し、表示装置に応用されている。
特許文献１には、有機ＥＬデバイス（有機ＥＬ素子ともいう。）を用いた、ＶＲ向けの表示装置が開示されている。
国際公開第２０１８／０８７６２５号
本発明の一態様は、高輝度での表示が可能な表示装置を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は、高精細な表示装置を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は、高解像度の表示装置を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は、信頼性の高い表示装置を提供することを課題の１つとする。
本発明の一態様は、高精細な表示装置の作製方法を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は
发明内容：
装置の作製方法を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は、信頼性の高い表示装置の作製方法を提供することを課題の１つとする。本発明の一態様は、歩留まりの高い表示装置の作製方法を提供することを課題の１つとする。
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はない。明細書、図面、請求項の記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
本発明の一態様は、第１の発光デバイスと、第２の発光デバイスと、絶縁層と、を有し、第１の発光デバイスは、第１の導電層と、第１の導電層上の第２の導電層と、第２の導電層上の第１の層と、第１の層上の共通電極と、を有し、第２の発光デバイスは、第３の導電層と、第３の導電層上の第４の導電層と、第４の導電層上の第５の導電層と、第５の導電層上の第２の層と、第２の層上の共通電極と、を有し、第５の導電層は、第３の導電層の上面及び側面、並びに第４の導電層の上面及び側面を覆い、第５の導電層の端部と、第２の層の端部とは、重なり、絶縁層は、第１の層の上面の一部及び側面と、第５の導電層及び第２の層のそれぞれ上面の一部及び側面と、に重なり、共通電極は、第１の層上、第２の層上、及び絶縁層上に設けられている表示装置である。
また上記において、第２の導電層、４の導電層、及び第５の導電層は、それぞれ酸化物導電層を有していることが好ましい。
また上記において、絶縁層は、側面にテーパ形状を有していることが好ましい。
また上記において、絶縁層は、有機絶縁材料を有していることが好ましい。
また、本発明の一態様は、第１の導電層及び第２の導電層を形成し、第１の導電層上及び第２の導電層上に、第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上に、第１の膜を形成し、第１の膜上に、第１のマスク膜を形成し、第１の膜及び第１のマスク膜を加工して、第１の導電層と重なる第１の導電膜上に、第１の層及び第１のマスク層を形成し、第１の導電膜の露出した部分を除去して、第１の導電層、第１の層、及び第１のマスク層と重なる領域に、第３の導電層を形成し、第１のマスク層上及び第２の導電層上に、第２の導電膜を形成し、第２の導電膜上に、第２の膜を形成し、第２の膜上に、第２のマスク膜を形成し、第２の膜及び第２のマスク膜を加工して、第２の導電層と重なる第２の導電膜上に、第２の層及び第２のマスク層を形成し、第２の導電膜の露出した部分を除去して、第２の導電層、第２の層、及び第２のマスク層と重なる領域に、第４の導電層を形成する表示装置の作製方法である。
また上記において、第４の導電層を形成後に、第１のマスク層上及び第２のマスク層上に、第１の絶縁膜を形成し、第１の絶縁膜上に、第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜を加工して、第１の導電層と第２の導電層に挟まれる領域に、絶縁層を形成し、絶縁層をマスクに用いてエッチング処理を行って、第１の絶縁膜、第１のマスク層、及び第２のマスク層を加工して、第１の層の上面及び第２の層の上面を露出させ、第１の層、第２の層、及び絶縁層を覆って、共通電極を形成することが好ましい。
また、本発明の一態様は、第１の導電層及び第２の導電層と、第１の導電層上の第３の導電層と、第２の導電層上の第４の導電層と、を形成し、第３の導電層上及び第４の導電層上に、第１の膜を形成し、第１の膜上に、第１のマスク膜を形成し、第１の膜及び第１のマスク膜を加工して、第１の導電層及び第３の導電層と重なる領域に、第１の層及び第１のマスク層を形成し、第１のマスク層上及び第４の導電層上に、導電膜を形成し、導電膜上に、第２の膜を形成し、第２の膜上に、第２のマスク膜を形成し、第２の膜及び第２のマスク膜を加工して、第２の導電層及び第４の導電層と重なる領域に、第２の層及び第２のマスク層を形成し、導電膜の露出した部分を除去して、第２の導電層及び第４の導電層、第２の層、及び第２のマスク層と重なる領域に、第５の導電層を形成する表示装置の作製方法である。
また上記において、第５の導電層を形成後に、第１のマスク層上及び第２のマスク層上に、第１の絶縁膜を形成し、第１の絶縁膜上に、第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜を加工して、第１の導電層及び第３の導電層と、第２の導電層及び第４の導電層と、に挟まれる領域に、絶縁層を形成し、絶縁層をマスクに用いてエッチング処理を行って、第１の絶縁膜、第１のマスク層、及び第２のマスク層を加工して、第１の層の上面及び第２の層の上面を露出させ、第１の層、第２の層、及び絶縁層を覆って、共通電極を形成することが好ましい。
また上記において、第３の導電層及び第４の導電層は、酸化物導電層を用いて形成することが好ましい。
また上記において、第５の導電層は、酸化物導電層を用いて形成することが好ましい。
また上記において、エッチング処理は、第１のエッチング処理と、第２のエッチング処理と、に分けて行い、絶縁層をマスクに用いた第１のエッチング処理では、第１の絶縁膜、第１のマスク層、及び第２のマスク層を加工して、第１の絶縁膜の一部を除去し、かつ、第１のマスク層の一部及び第２のマスク層の一部の膜厚を薄くし、加熱処理を行った後に、絶縁層をマスクに用いた第２のエッチング処理では、第１のマスク層の一部及び第２のマスク層の一部を除去し、第１の層の上面及び第２の層の上面を露出させることが好ましい。
また上記において、第１のエッチング処理及び第２のエッチング処理は、ウェットエッチングによって行うことが好ましい。
また上記において、第１の絶縁膜として、ＡＬＤ法を用いて、酸化アルミニウム膜を成膜し、第１のマスク膜及び第２のマスク膜として、それぞれＡＬＤ法を用いて、酸化アルミニウム膜を成膜することが好ましい。
また上記において、第２の絶縁膜は、感光性のアクリル樹脂を用いて形成することが好ましい。
本発明の一態様により、高輝度での表示が可能な表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、高精細な表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、高解像度の表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、信頼性の高い表示装置を提供することができる。
本発明の一態様により、高精細な表示装置の作製方法を提供することができる。本発明の一態様により、高解像度の表示装置の作製方法を提供することができる。本発明の一態様により、信頼性の高い表示装置の作製方法を提供することができる。本発明の一態様により、歩留まりの高い表示装置の作製方法を提供することができる。
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。明細書、図面、請求項の記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
図１Ａは、表示装置の一例を示す上面図である。図１Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。図１Ｃは、第１の層の一例を示す上面図である。
図２Ａ及び図２Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図３Ａ及び図３Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図４Ａ及び図４Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図５Ａ及び図５Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図６Ａ及び図６Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図７Ａは、表示装置の一例を示す断面図である。図７Ｂ及び図７Ｃは画素電極の一例を示す断面図である。
図８Ａ乃至図８Ｃは、表示装置の一例を示す断面図である。
図９Ａ及び図９Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図１０Ａ乃至図１０Ｃは、表示装置の一例を示す断面図である。
図１１Ａ及び図１１Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図１２Ａ及び図１２Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図１３Ａは、表示装置の一例を示す上面図である。図１３Ｂは、表示装置の一例を示す断面図である。
図１４Ａ乃至図１４Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図１５Ａ乃至図１５Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図１６Ａ乃至図１６Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図１７Ａ乃至図１７Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図１８Ａ乃至図１８Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図１９Ａ乃至図１９Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図２０Ａ乃至図２０Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図２１Ａ乃至図２１Ｃは、表示装置の作製方法の一例を示す断面図である。
図２２Ａ乃至図２２Ｆは、表示